知識產權法基本原理. II, 創作法

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  • 作者:
  • 出版年:2010[民99]
  • 出版社:元照
  • 出版地:臺北市
  • ISBN:978-986-255-061-8 ; 986-255-061-9

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可借 10

簡介

本書在知識產權法定主義觀念、知識產權法—反不正當競爭法-民法的整體性知識產權法思想指導下,利用立法論和解釋論相區別的方法論,集中探討了知識產權法創作法的各種問題,內容涉及發明專利法、實用新型專利法、外觀設計專利法、商業秘密法、植物新品種保護法、集成電路布圖設計法等內容。全書體現了作者獨特的解釋視角和智慧,是一本貫通了知識產權法基本理論和實踐的難得的好書。

 

章節

  • 推薦序(p.II)

作者簡介

李揚

現職:華中科技大學法學院教授、知識產權學院(籌)院長法學院院長助理、博士生導師。武漢大學國際法研究所博士後出站。中國科技法學會理事。湖北省科技法學會秘書長。經歷:日本北海道大學GCOE中心和法學研究科工作(2005-2006、2009-2010)。學歷:北京大學知識產權法碩士、博士。著作:《知識產權法總論》(獨著)。《數據庫法律保護研究》(獨著)。《知識產權法基礎理論和前沿問題》(合著)。《知識產權的合理性、危機及其未來模式》(合著)。《網絡知識產權法》(獨著)。

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